公開(公告)號
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CN1993323A
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公開(公告)日
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2007.07.04
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申請(專利)號
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CN200580026501.6
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申請日期
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2005.07.27
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專利名稱
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吲哚,吲唑或二氫吲哚衍生物
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主分類號
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C07D209/30(2006.01)I
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分類號
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C07D209/30(2006.01)I;A61K31/404(2006.01)I;A61P3/06(2006.01)I
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分案原申請?zhí)? |
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優(yōu)先權
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2004.8.5 EP 04103762.3
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申請(專利權)人
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霍夫曼-拉羅奇有限公司
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發(fā)明(設計)人
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A·孔特-邁韋格;H·屈內;T·呂貝斯;C·莫熱艾斯;W·米勒;P·普夫利格
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地址
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瑞士巴塞爾
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頒證日
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國際申請
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2005-07-27 PCT/EP2005/008142
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進入國家日期
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2007.02.05
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專利代理機構
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中科專利商標代理有限責任公司
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代理人
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柳春琦
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國省代碼
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瑞士;CH
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主權項
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通式I的化合物: 其中 -X-Y-是-CRa=CRc-或-CRa=N-或-CRaRb-CRcRd-, 其中Ra,Rb,Rc和Rd相互獨立地選自:氫和低級烷基; R1,R2,R4和R5相互獨立地選自:氫、低級烷基、低級烷氧基、鹵素和低級鹵代烷基; R3選自:低級烷基,未取代的或被低級烷基、氰基或低級烷氧基取代的環(huán)烷基,低級鹵代烷基,低級烷氧基-烷基,低級烷氧基-鹵代烷基,鹵代烷氧基和五氟硫烷基;或 R2和R3與它們連接的碳原子一起形成5-或6-元碳環(huán)或5-或6-元含有選自N、O或S中的一個或兩個雜原子的雜環(huán),所述的碳環(huán)或雜環(huán)是未取代的或被一個、兩個、三個或四個基團取代的,所述的基團獨立地選自:低級烷基、環(huán)烷基、低級烷氧基、鹵素和低級鹵代烷基; R6選自:氫和低級烷基; R7選自:氫,低級烷基,羥基和鹵素; R8選自:低級烷基,低級鏈烯基,低級鹵代烷基,雜環(huán)基,未取代的或被獨立地選自低級烷基、低級烷氧基、低級鹵代烷基、低級鹵代烷氧基和鹵素中的一個或兩個基團所取代的雜芳基,未取代的或被獨立地選自低級烷基、低級烷氧基、低級鹵代烷基、低級鹵代烷氧基和鹵素中的一個或兩個基團所取代的苯基,-OR12,其中R12是低級烷基或未取代的或被獨立地選自低級烷基、低級烷氧基、低級鹵代烷基、低級鹵代烷氧基和鹵素中的一個或兩個基團所取代的苯基,-NR13R14,其中R13和R14彼此獨立地選自:氫,低級烷基和未取代的或被獨立地選自低級烷基、低級烷氧基、低級鹵代烷基、低級鹵代烷氧基和鹵素中的一個或兩個基團所取代的苯基,和-C(O)-OR15,其中R15是氫或低級烷基; R9,R10和R11相互獨立地選自:氫、低級烷基、環(huán)烷基、低級烷氧基、低級鹵代烷基和鹵素; n是1或2; 及其所有藥用鹽。
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摘要
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本發(fā)明涉及通式(I)的化合物及其藥用鹽,其中-X-Y-、R1至R11和n如說明書和權利要求書中所定義。該化合物可以用于治療和/或預防由CETP抑制劑介導的疾病。
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國際公布
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2006-02-09 WO2006/013048 英
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