31.全口義齒人工后牙的近遠(yuǎn)中總長度應(yīng)等于該側(cè)（B）。
A.尖牙近中面至磨牙后墊前緣的距離
B.尖牙遠(yuǎn)中面至磨牙后墊前緣的距離
C.尖牙遠(yuǎn)中面至磨牙后墊1/3處的距離
D.尖牙近中面至磨牙后墊1/2的距離
E.尖牙近中面至磨牙后墊后緣的距離
32.做唇頰溝加深術(shù)的目的是（E）。
A.降低唇郟系帶附著點(diǎn)
B.增大垂直距離
C.增加頜間距離
D.減小頜間距離
E.加大基托伸展范圍
33.與全口義齒穩(wěn)定無關(guān)的是（D）。
A.咬合關(guān)系
B.人工牙排列位置
C.合平衡
D.基托密合
E.磨光面形態(tài)
34.與吸附力關(guān)系最密切的因素是（A）。
A.基托組織面與粘膜的密合程度
B.唾液的質(zhì)和量
C.是否用軟襯材料
D.是否戴過舊義齒
E.基托的厚度
35.一患者全口義齒戴牙一周后，感覺尚好，僅在上頜腭中縫處有輕度壓痛。最可能的原因是（A）。
A.上頜腭中縫緩沖不夠
B.咀嚼效率不高
C.戴用時(shí) 間不長
D.義齒性口炎
E.基托不密合
36.垂直距離通常指（D）。
A.眼裂至口角的距離
B.鼻底至口角的距離
C.口角至頦底的距離
D.鼻底至頦底的距離
E.上下牙槽嵴頂間的距離
37.全口義齒的固位力不包括（D）。
A.吸附力
B.附著力
C.粘著力
D.摩擦力
E.大氣壓力
38.一患者戴用全口義齒一周，主訴左側(cè)后牙經(jīng)常咬腮，無其他不適。處理方法是（B）。
A.調(diào)磨左上后牙頰面。 醫(yī).學(xué).全.在.線.m.payment-defi.com
B.調(diào)磨左上后牙頰尖頰斜面。
C.磨低左上后牙頰尖
D.磨低左下后牙頰尖
E.磨低右下后牙頰尖
39.人工牙排列要有平衡 的主要原因是（C）。
A.增大接觸面積
B.提高咀嚼效率高
C.有利于義齒穩(wěn)定
D.使義齒美觀
E.糾正偏咀嚼習(xí)慣
40.患者戴用全口義齒一周后，自訴義齒松動(dòng)，易脫落。檢查診斷時(shí)應(yīng)先檢查（C）。
A.咬合是否穩(wěn)定
B.先讓患者吃一樣?xùn)|西試試
C.固位力大小
D.讓病人做大張口
E.基托邊緣伸展
41.非解剖式人工牙的牙尖斜度為（E）。
A.45°
B.40°
C.33°
D.20°
E.0°
42.位于口腔前庭內(nèi)相當(dāng)于原中切牙近中交界線的延長線上的是（B）。
A.舌系帶
B.唇系帶
C.頰系帶
D.口輪匝肌的起始部
E.上頜義齒切跡
43.基托組織面需重襯的是（B）。
A.正中關(guān)系錯(cuò)
B.義齒固位差
C.前牙咬切功能差
D.下頜隆突處壓痛
E.說話及大開口時(shí)義齒脫落
44.屬于副承托區(qū)（D）。
A.上頜牙槽嵴頂
B.磨牙后墊
C.切牙乳突
D.頰側(cè)前庭
E.頰系帶
45.避免上頜義齒基托縱裂的措施中不正確的是（E）。
A.腭側(cè)基托中加金屬網(wǎng)或金屬基托
B.人工后牙排列近牙槽嵴頂
C.減小前牙覆合
D.獲得平衡合
E.加厚義齒基托
46.患者戴用全口義齒一月，復(fù)查時(shí)自述戴牙后一直感覺咀嚼無力，面部酸痛。原因可能為（C）
A.患者身體不適
B.人工牙為塑料牙
C.垂直距離過低
D.關(guān)節(jié)功能紊亂
E. 關(guān)系有誤
47.下頜后部牙槽嵴骨吸收的方向?yàn)椋˙）。
A.向下、向后
B.向下、向外
C.向下、向內(nèi)
D.向后、向外
E.向下、向前
48.上頜義齒基托不需要緩沖的部位是（D）。
A.切牙乳突
B.顴突區(qū)
C.腭中縫
D.顫動(dòng)線
E.上頜隆突
49.無牙頜的印模方法中錯(cuò)誤的是（A）。
A.用印模膏取一次性印模
B.用印模膏取初印模
C.用印模膏做個(gè)別托盤
D.用舊義齒做個(gè)別托盤
E.用藻酸鹽印模材取終印模
50.全口義齒試排牙時(shí)發(fā)現(xiàn)，在口內(nèi)做正中合咬合時(shí)，只有兩側(cè)上下第二磨牙接觸，其余牙齒均開合。處理辦法是（E）。 醫(yī) 學(xué) 全 在線m.payment-defi.com
A.降低第二磨牙
B.抬高其他人工牙
C.加大補(bǔ)償曲線
D.減小補(bǔ)償曲線
E.重取頜位關(guān)系記錄
51.不屬于邊緣封閉區(qū)的是（D）。
A.上頜后堤區(qū)
B.下頜磨牙后墊區(qū)
C.牙槽嵴粘膜與唇頰粘膜的反折處
D.能承擔(dān)部分咀嚼壓力的區(qū)域
E.能阻止空氣進(jìn)入基托與所覆蓋組織之間的區(qū)域
52.前牙區(qū) 堤平面應(yīng)平行于（B）。
A.上唇
B.瞳孔連線
C.鼻底
D.鼻翼耳屏線
E.眶耳平面
53.選擇上頜無牙頜印模托盤的標(biāo)準(zhǔn)包括（D）。
A.中部蓋過腭小凹后2mm
B.低于唇頰粘膜皺襞2mm
C.高于唇頰粘膜皺襞2mm
D.A＋B
E.A＋C
